| 公开(公告)号 | CN1835928A |
| 公开(公告)日 | 2006.09.20 |
| 申请(专利)号 | CN200480009255.9 |
| 申请日期 | 2004.04.07 |
| 专利名称 | 作为钙敏感受体拮抗剂的嘧啶酮化合物 |
| 主分类号 | C07D239/36(2006.01)I |
| 分类号 | C07D239/36(2006.01)I;C07D239/80(2006.01)I;A61K31/505(2006.01)I;A61K31/517(2006.01)I |
| 分案原申请号 | |
| 优先权 | 2003.4.7 US 60/460,859;2003.6.18 US 60/479,323 |
| 申请(专利权)人 | NPS制药公司;史密丝克莱恩比彻姆公司 |
| 发明(设计)人 | 伊里娜·V·谢尔巴科娃;曼纽尔·F·巴兰德林;黄光飞;奥托·若弗鲁瓦;约翰·福克斯;罗伯特·马奎斯;丹尼斯·信二·山下;朱昂·卢恩戈;王文勇 |
| 地址 | 美国犹他州 |
| 颁证日 | |
| 国际申请 | 2004-04-07 PCT/US2004/010638 |
| 进入国家日期 | 2005.10.08 |
| 专利代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 |
| 代理人 | 郭国清;樊卫民 |
| 国省代码 | 美国;US |
| 主权项 | 一种具有如下化学式的化合物： 其中： R1和R2独立地是下述基团之一：H，卤素，CN，CF3，低级烷基，环alk，及芳基；或R1和R2一起是-(CH2)n-，n是5，4，或3； R3是芳基，在芳环上可有1～4个取代基，每个取代基是下述基团之一：H，卤素，CN，CF3，OCF3，低级烷基，N(低级烷基)2，低级烷氧基，OH，OC(O)-低级烷基，OC(O)-低级烷氨基，及OC(O)-低级烷基-N(低级烷基)2； R4是下述基团之一：H，低级烷基，及式-(CH2)n-R5，其中n是0，1，或2，及R5是芳基，在芳环上可有1～3取代基，每个取代基是下述基团之一：H，卤素，CN，CF3，OCF3，低级烷基，低级烷氧基，NH-低级烷基，NH-烷芳基，N(低级烷基)2，OH，OC(O)-低级alk，OC(O)-低级烷氨基，及OC(O)-低级烷基-N(低级alk)2； 及其药物可接受的盐或配合物。 |
| 摘要 | 本发明公开了嘧啶酮化合物。也公开了制备嘧啶酮化合物的方法。 |
| 国际公布 | 2004-10-28 WO2004/092120 英 |
