| 公开(公告)号 | CN1906205A |
| 公开(公告)日 | 2007.01.31 |
| 申请(专利)号 | CN200480040613.2 |
| 申请日期 | 2004.11.23 |
| 专利名称 | 皮肤瘢痕形成的减少 |
| 主分类号 | C07H21/04(2006.01)I |
| 分类号 | C07H21/04(2006.01)I;C12N15/00(2006.01)I;C12N15/09(2006.01)I;C12N15/63(2006.01)I;C12N15/85(2006.01)I;C12N15/86(2006.01)I;A61K48/00(2006.01)I |
| 分案原申请号 | |
| 优先权 | 2003.11.24 US 60/524,993 |
| 申请(专利权)人 | 坎吉有限公司 |
| 发明(设计)人 | D·古;M·泽佩达 |
| 地址 | 美国加利福尼亚州 |
| 颁证日 | |
| 国际申请 | 2004-11-23 PCT/US2004/039633 |
| 进入国家日期 | 2006.07.18 |
| 专利代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 |
| 代理人 | 林 森 |
| 国省代码 | 美国;US |
| 主权项 | 一种减少瘢痕形成的方法，所述方法包括给予具有伤口的对象的皮肤含表达盒的多核苷酸，其中所述表达盒包含有效连接至p21WAF1/Cip1编码多核苷酸的启动子。 |
| 摘要 | 本发明提供了通过在受伤部位表达p21WAF1/Cip1而减少或抑制皮肤瘢痕形成的方法和组合物。 |
| 国际公布 | 2005-06-09 WO2005/051971 英 |
