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您现在的位置: 医学全在线 > 药学理论 > 中国药品专利文献 > 正文:四氢吡喃衍生物专利检索:专利号/专利人/发明人
    

四氢吡喃衍生物

医药数据库中心 药学论坛 山之内制药株式会社/须贺亮;久保田秀树;三浦理宪;流石大辅;盛谷浩史
公开(公告)号 CN1656091A  
公开(公告)日 2005.08.17  
申请(专利)号 CN03812142.5  
申请日期 2003.05.29  
专利名称 四氢吡喃衍生物  
主分类号 C07D405/10  
分类号 C07D405/10;A61K31/407;A61K31/454;A61K31/4433;C07D471/04;A61K31/497;A61K31/506;A61K31/5377;A61K31/541;A61K31/55;A61K31/551;A61P1/18;A61P3/04;A61P3/06;A61P9/10;A61P43/00  
分案原申请号  
优先权 2002.5.31 JP 158555/2002  
申请(专利权)人 山之内制药株式会社  
发明(设计)人 须贺亮;久保田秀树;三浦理宪;流石大辅;盛谷浩史  
地址 日本东京  
颁证日  
国际申请 PCT/JP2003/006758 2003.5.29  
进入国家日期 2004.11.26  
专利代理机构 上海专利商标事务所有限公司  
代理人 胡烨  
国省代码 日本;JP  
主权项 以下通式(I)表示的四氢吡喃衍生物或其盐,式中符号具有以下含义:R1及R3:相同或不同,H或低级烷基,R2:H、卤原子、Ra-低级烷基-或R20O-CO-,Ra:H、R21O-CO-、R22R23N-、R24R25N-CO-、R26O-、氰基或可取代的杂环-,R4、R5、R6及R7:相同或不同,H、卤原子、卤代烷基、氰基、低级烷基、低级烷基-O-、R21O-CO-低级烷基-、R27-CO-或R28R29N-S(O)2-,R8及R9:相同或不同,H、低级烷基、R30-低级烷基-、R31R32N-、可取代的杂环-或R33R34R35C-,R8及R9也可一体形成可取代的杂环-,X:N或CR36,R20、R22~R26、R28、R29、R32、R35及R36:相同或不同,H或低级烷基,R21:H、低级烷基或芳基-低级烷基-,R27:HO-、低级烷基-O-或可取代的杂环-,R30:可取代的芳基、可取代的杂环-或低级烷基-O-,R31:可取代的芳基或可取代的杂环-,R33:HO-低级烷基-或可取代的杂环-低级烷基-,R34:可取代的芳基。  
摘要 本发明发现新颖的四氢吡喃衍生物具有良好的与apo B有关的脂蛋白分泌的抑制作用,从而解决了以往技术中存在的问题。  
国际公布 WO2003/101983 日 2003.12.11  
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