公开(公告)号 | CN1708483A |
公开(公告)日 | 2005.12.14 |
申请(专利)号 | CN200380102010.6 |
申请日期 | 2003.10.22 |
专利名称 | 制备吡唑化合物的方法 |
主分类号 | C07D231/38 |
分类号 | C07D231/38 |
分案原申请号 | |
优先权 | 2002.10.23 US 60/420,590 |
申请(专利权)人 | 万有制药株式会社 |
发明(设计)人 | 间濑俊明;饭田刚彦;门胁千惠;川崎雅史;浅川坚一;羽下裕二 |
地址 | 日本东京 |
颁证日 | |
国际申请 | 2003-10-22 PCT/JP2003/013507 |
进入国家日期 | 2005.04.25 |
专利代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 |
代理人 | 樊卫民;杨 青 |
国省代码 | 日本;JP |
主权项 | 制备式I′的化合物、或其盐、水合物或多晶型物的方法,其中R1和R2都独立地选自:(1)氢,(2)卤素,(3)硝基,(4)低级烷基,(5)卤代(低级)烷基,(6)羟基(低级)烷基,(7)环(低级)烷基,(8)低级链烯基,(9)低级烷氧基,(10)卤代(低级)烷氧基,(11)低级烷硫基,(12)羧基,(13)低级烷酰基,(14)低级烷氧基羰基,(15)选择性地被氧代取代的低级亚烷基,和(16)-Q-Ar2,其中Q选自单键和羰基,和其中Ar2选自:(1)芳基,和(2)杂芳基,其中Ar2为未取代的或被选自以下的取代基取代:(a)卤素,(b)氰基,(c)低级烷基,(d)卤代(低级)烷基,(e)羟基(低级)烷基,(f)羟基,(g)低级烷氧基,(h)卤代(低级)烷氧基,(i)低级烷基氨基,(j)(二低级烷基)氨基,(k)低级烷酰基,和(l)芳基;所述方法包括步骤:(a)形成肼溶液;(b)向步骤(a)的肼溶液中加入式V的化合物形成混合物;和其中R3选自(1)低级烷基,(2)芳基,和(3)-CH2芳基,(c)加热步骤(b)的混合物到约50℃到约100℃的温度;以得到化合物I’、或其盐、水合物或多晶型物。 |
摘要 | 本发明涉及制备式I的吡唑化合物的方法。 |
国际公布 | 2004-05-06 WO2004/037794 英 |