| 公开(公告)号 | CN1863807A |
| 公开(公告)日 | 2006.11.15 |
| 申请(专利)号 | CN200480029067.2 |
| 申请日期 | 2004.10.08 |
| 专利名称 | 青霉素晶体及其制备方法 |
| 主分类号 | C07D499/00(2006.01)I |
| 分类号 | C07D499/00(2006.01)I |
| 分案原申请号 | |
| 优先权 | 2003.10.9 JP 350406/2003 |
| 申请(专利权)人 | 大塚化学株式会社;大鹏药品工业株式会社 |
| 发明(设计)人 | 和田功;龟山丰 |
| 地址 | 日本大阪 |
| 颁证日 | |
| 国际申请 | 2004-10-08 PCT/JP2004/015305 |
| 进入国家日期 | 2006.04.05 |
| 专利代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 |
| 代理人 | 杨 青;樊卫民 |
| 国省代码 | 日本;JP |
| 主权项 | 2β-氯甲基-2α-甲基青霉烷-3α-羧酸二苯甲基酯的晶体。 |
| 摘要 | 本发明提供稳定性极好的2β-氯甲基-2α-甲基青霉烷-3α-羧酸二苯甲基酯(CMPB)晶体，一种制备该CMPB晶体的方法，包括步骤：(A)浓缩含CMPB的溶液；(B)将由此获得的浓缩物进行柱色谱纯化；(C)浓缩含CMPB的级分；和(D)将由此获得的含CMPB浓缩物溶解在醚溶剂中，并向所得溶液中加入烃溶剂以析出CMPB晶体。 |
| 国际公布 | 2005-04-21 WO2005/035539 日 |
