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缓释制剂及其制造方法

医药数据库中心 药学论坛 大塚制药株式会社/友平裕三
公开(公告)号 CN1301104C  
公开(公告)日 2007.02.21  
申请(专利)号 CN03804387.4  
申请日期 2003.02.20  
专利名称 缓释制剂及其制造方法  
主分类号 A61K9/22(2006.01)I  
分类号 A61K9/22(2006.01)I;A61K47/04(2006.01)I;A61K47/12(2006.01)I  
分案原申请号  
优先权 2002.2.21 JP 44460/2002  
申请(专利权)人 大塚制药株式会社  
发明(设计)人 友平裕三  
地址 日本东京都  
颁证日  
国际申请 2003-02-20 PCT/JP2003/001837  
进入国家日期 2004.08.20  
专利代理机构 北京市金杜律师事务所  
代理人 杨宏军  
国省代码 日本;JP  
主权项 一种缓释制剂,是将使药理活性物质溶解或分散在低熔点物质与pH非依赖性水不溶性高分子物质的熔融混合物中得到的液状物喷雾,冷却,在得到的粒子表面熔融涂覆(1)乙基纤维素的微粉或(2)由乙基纤维素与选自滑石粉、硬脂酸镁及氧化钛中的至少1种组成的、乙基纤维素在该微粉中所占的比例为60重量%或60重量%以上的微粉,然后,在形成的熔融涂覆层上附着选自乳糖、滑石粉、硬脂酸镁及氧化钛中的至少1种粉末而形成的缓释制剂,所述低熔点物质为选自脂肪酸甘油酯、脂肪酸聚甘油酯、柠檬酸脂肪酸甘油酯、硬脂酸、棕榈酸、硬脂醇、十六烷醇中的至少1种,所述pH非依赖性水不溶性高分子物质为选自乙基纤维素、甲基丙烯酸氨基烷基酯共聚物RS、甲基丙烯酸氨基烷基酯共聚物RL、乙酸纤维素、乙酸丁酸纤维素、乙酸丙酸纤维素中的至少1种。  
摘要 本发明提供一种能够长时间释放药理活性物质的缓释制剂及其制造方法。在将低熔点物质及药理活性物质熔融造粒得到的粒子表面熔融涂覆(1)水不溶性高分子物质的微粉或(2)水不溶性高分子物质与选自滑石粉、硬脂酸镁及氧化钛中的至少1种的微粉,由此制造本发明的缓释制剂。  
国际公布 2003-08-28 WO2003/070223 日  
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