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噻唑衍生物及其作为VAP-1抑制剂的用途

医药数据库中心 药学论坛 安斯泰来制药有限公司/井上隆幸;东条隆;森田真正;大久保充;吉原耕生;永岛亮
公开(公告)号 CN1761655A  
公开(公告)日 2006.04.19  
申请(专利)号 CN200480007682.3  
申请日期 2004.01.27  
专利名称 噻唑衍生物及其作为VAP-1抑制剂的用途  
主分类号 C07D277/46(2006.01)I  
分类号 C07D277/46(2006.01)I;C07D277/48(2006.01)I;C07D277/56(2006.01)I;C07D417/12(2006.01)I;C07D417/06(2006.01)I;A61K31/426(2006.01)I;A61K31/427(2006.01)I;A61K31/4439(2006.01)I;A61K31/454(2006.01)I;A61P27/02(2006.01)I  
分案原申请号  
优先权 2003.1.27 US 60/442,509;2003.3.31 US 60/458,369;2003.11.6 US 60/517,377  
申请(专利权)人 安斯泰来制药有限公司  
发明(设计)人 井上隆幸;东条隆;森田真正;大久保充;吉原耕生;永岛亮  
地址 日本东京都  
颁证日  
国际申请 2004-01-27 PCT/JP2004/000708  
进入国家日期 2005.09.21  
专利代理机构 中国专利代理(香港)有限公司  
代理人 段晓玲  
国省代码 日本;JP  
主权项 一种下式(I)化合物或其药学上可接受的盐: R1-NH-X-Y-Z(I) 其中 R1为酰基; X是衍生自任选取代的噻唑的二价残基; Y为化学键、低级亚烷基、低级亚烯基或-CONH-; Z为下式基团: 或 其中R2为下式基团:-A-B-D-E 其中A为化学键、低级亚烷基、-NH-或-SO2-; B为化学键、低级亚烷基、-CO-或-O-; D为化学键、低级亚烷基、-NH-或-CH2NH-; E为任选保护的氨基、-N=CH2、 或 其中 Q为-S-或-NH-; R3为氢、低级烷基、低级烷硫基或-NH-R4,其中 R4为氢、-NH2或低级烷基。  
摘要 一种可用作血管粘附蛋白-1(VAP-1)抑制剂的式(I)化合物或其药学上可接受的盐:R1-NH-X-Y-Z(I),其中R1是酰基;X是衍生自任选取代的噻唑的二价残基;Y为化学键、低级亚烷基或-COHN-;Z为式(II)或(III)基团,其中R2是规定的取代基,所述化合物用于预防或治疗VAP-1相关疾病、尤其是黄斑水肿。  
国际公布 2004-08-12 WO2004/067521 英  
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