| 公开(公告)号 | CN1761465A |
| 公开(公告)日 | 2006.04.19 |
| 申请(专利)号 | CN200480006889.9 |
| 申请日期 | 2004.01.28 |
| 专利名称 | 制备被覆制剂的方法 |
| 主分类号 | A61K31/439(2006.01)I |
| 分类号 | A61K31/439(2006.01)I;A61K31/155(2006.01)I;A61K9/30(2006.01)I;A61P3/10(2006.01)I |
| 分案原申请号 | |
| 优先权 | 2003.1.29 JP 020925/2003;2003.7.18 JP 276894/2003;2004.1.6 JP 001128/2004 |
| 申请(专利权)人 | 武田药品工业株式会社 |
| 发明(设计)人 | 大河内一宏;小池正彦;小山博义;滨口直 |
| 地址 | 日本大阪府 |
| 颁证日 | |
| 国际申请 | 2004-01-28 PCT/JP2004/000754 |
| 进入国家日期 | 2005.09.13 |
| 专利代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 |
| 代理人 | 封新琴;巫肖南 |
| 国省代码 | 日本;JP |
| 主权项 | 一种被覆制剂的制备方法，其包括用包含低粘度涂覆材料的盐酸吡格列酮的水性分散体进行涂覆。 |
| 摘要 | 本发明旨在提供一种用于制备用盐酸吡格列酮涂覆的制剂的方法，所述制剂可用作糖尿病等的治疗剂，并且其制剂特性例如盐酸吡格列酮的洗脱性能优异。 |
| 国际公布 | 2004-08-12 WO2004/067001 日 |
